Semiconductores e industria fotovoltaica
Restricciones de pureza:
- Nuestros procesos de pureza permiten alcanzar niveles de impureza extremadamente bajos, por debajo de 5 ppm.
- El método ETV-ICP sirve para detectar y monitorear impurezas a niveles menores de 5 ppb.
Limitaciones de higiene:
- La Impregnación de Carbono Vítreo (VCI) se desarrollo para reducir las emisiónes de partículas y la desgasificación al vacío de los materiales, sobre todo para aplicaciones de semiconductores.
Resistencia a los reactivos utilizados en los procesos de plasma:
- Los productos Mersen se pueden revestir con una fina capa de carbono pirolítico reduciendo la permeabilidad del material ante productos reactivos al mínimo, particularmente para aplicaciones de semiconductores.
- Para aumentar aún más la resistencia de los reactivos de proceso, Mersen propone impregnar el núcleo con resina para reducir la porosidad.
Resistencia al hidrógeno por encima de los 900 °C, reactivos MOCVD y ácidos fuertes (HCl, HF):
- Mersen ha dominado la sedimentación de películas finas de carburo de silicio que ofrece una protección inigualable de los equipos de grafito, sobre todo en entornos extremos.